SemDex 301

Semi-Automatisches Wafer- Inspektionssystem mit integrierter optischer Metrologie für unterschiedlichste Anwendungen

Manuelles Beladen, automatische Vermessung
Autonomes Standgerät mit integriertem PC und Monitor
Bis zu 300mm (12") Wafer, beidseitig messbar
Framed und unframed Wafer
Single, Twin, Triple oder Quadro Sensorkonfiguration
Optionale Vakuum- Chucks, auch für beidseitiges Vermessen
Integrierte Vakuumerzeugung zur Waferfixierung
Optional mit hochauflösender HD CMOS – Kamera
Luftgefederte, verwindungssteife Messplatte für erschütterungsfreien Messbetrieb
x/y-Präzisionsmesstisch mit präziser Schrittmotorpositionierung
Integrierte Kalibrationskörper im Chuck (Schichtdicke, 3D-Topographie, Rauheit)
Beschichtetes Stahlgehäuse oder Edelstahlgehäuse für den Reinraum
Ergonomie nach Semi- Standards S2 und S8
Bedienerfreundliche Software: WaferSpect

Optional: SECS/ GEM Software-Paket – integrierte Kommunikationsschnittstelle zwischen Fabrikation und Gerät